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进行甲烷图17.250nm通孔结构的Au/CH3NH3PbI3/Pt存储器件的制备与性能 (a和b)具有250nm通孔结构的Au/CH3NH3PbI3/Pt存储器件的制造程序和示意结构。(c)器件间的均匀性，合成(d)弯曲性能，以及(e)器件半径为3.8mm时的弯曲耐久性。

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